
AI循環確立,艾司摩爾給出強勁2026藍圖
ASML(艾司摩爾)(ASML)釋出更具進攻性的中期目標,預估2026年淨銷售將達340億至390億歐元,毛利率介於51%至53%,並啟動最高120億歐元的新一輪回購,同步調升2025年全年股利至每股7.50歐元,年增17%。在AI與資料中心資本開支延續擴張下,公司將2026年訂為EUV的大年,市場需求與產能布局雙雙提速。然而利多消息引發短線獲利了結,ADR先拉高近3%後回落收黑,終場下跌2.18%至1422.92美元,顯示消息面的強勁與評價面的拉鋸並存。
EUV動能抬頭,高NA商轉催化新一輪製程循環
公司核心營運來自先進光刻機銷售與安裝基礎服務兩大引擎,其中EUV與高NA平台為先進邏輯與HBM記憶體擴產的關鍵瓶頸設備。管理層指出,最新一季EUV收入年增39%,受惠於出貨量提升、售價走升以及多台高NA EXE工具獲得客戶認證,強固技術護城河。以全球獨家EUV供應商的寡占地位,公司在先進製程的議價與配置權顯著高於其他半導體設備商,有望持續受益於製程線上光刻層數的增加與良率優化需求。
訂單創新高,AI擴產帶動先進製程拉貨轉強
公司最新季度接單創新高,主要受AI伺服器、加速卡與高頻寬記憶體帶動的先進製程拉貨。Nvidia(輝達)(NVDA)與TSMC(台積電)(TSM)等產業龍頭倚賴艾司摩爾的EUV與高NA技術推進2奈米與以下節點,隨著AI推論滲透更廣與訓練規模升級,先進邏輯與HBM的資本支出能見度提升,訂單結構呈現從高階製程向主流製程外溢的健康態勢。
短期營運指引明朗,全年動能由EUV領銜
公司預估2026年第一季淨銷售為82億至89億歐元,其中安裝基礎管理業務約24億歐元,顯示服務與升級需求維持韌性。全年展望延續強勁,除EUV持續放量外,非EUV業務在成熟製程回補與區域性擴產支撐下亦呈現穩健。管理層同時強調,達成指引上緣仍仰賴高NA放量節奏與主要客戶的產能就緒度與執行效率。
聚焦工程效率,組織重整支撐長期創新曲線
為提升產品開發與交付效率,公司宣布技術組織重整,將削減約1,700個以管理層為主的職位,聚焦工程能量並強化創新引擎。此舉並非需求轉弱的訊號,而是為高NA商轉、產能擴充與品質管控預先騰挪資源,有助縮短開發到量產的時間差,匹配客戶擴產時間表。
回購與股利雙軌並進,現金回饋提高估值防禦
新一輪規模上限達120億歐元的回購計畫預計於2028年底前執行,輔以2025年股利上調至7.50歐元,反映公司對自由現金流的信心。安裝基礎服務帶來可預見的高毛利現金流,搭配EUV售價結構改善,有助在資本支出周期波動下維持資本回饋節奏,為評價提供下檔支撐。
中國占比約兩成,出口規範仍是關鍵變數
管理層表示,2026年中國市場占整體淨銷售比重預期與當前系統待交訂單相當,約為20%,主要仍以非EUV機台為主。雖然美荷管制框架對先進機台出貨有一定限制,但在成熟製程擴產及存量設備升級帶動下,區域貢獻度仍具韌性。未來若政策再度收緊或許影響交期與產品結構,投資人需持續關注。
產業上行周期延續,光刻強度與層數提升推升單機價值
AI訓練與推論帶動的資料中心投資周而復始,2奈米以下先進節點對EUV與高NA的依賴度提升,邏輯製程層數擴張與CD縮小,使光刻時數與機台利用率走高。HBM堆疊與先進封裝亦推升整體製程複雜度,利多與光刻相鄰的對準與量測需求。相較同業Applied Materials(應用材料)(AMAT)與Lam Research(科林研發)(LRCX)涵蓋範疇不同,艾司摩爾的獨占EUV與先進對準技術帶來黏著度與定價權,產業地位具持續性。
長期機會區間擴大,利潤結構隨規模提升改善
公司重申長期營收機會區間為440億至600億歐元,當規模擴大與產品組合優化後,毛利率區間可望提升至56%至60%。隨高NA導入加速、供應鏈瓶頸紓解與產能擴建到位,中長期利潤結構具上行空間,為估值伸展提供條件。
利多交織短線震盪,股價消化評價與消息強度
消息面上,訂單創高、強勁指引與回購利多同時釋出,但ADR當日仍自高檔拉回,反映前期漲幅不小與短線交易情緒影響。相對同業與大盤,股價屬高貝塔表現,後續將跟隨大型雲端與AI晶片客戶的資本開支訊號波動。技術面短期震盪不改基本面走強,中期趨勢仍倚賴高NA出貨落地與毛利率達標的執行力。
以波動換成長,逢回關注先進設備龍頭的配置價值
對台灣投資人而言,艾司摩爾是AI與先進製程長線趨勢的純度標的,具備技術寡占、長約訂單與高現金回饋三大護城河。風險面包括出口規範變動、客戶擴產時點遞延與新平台良率爬坡,但在AI資料中心與先進節點擴產驅動下,營收與毛利結構可望逐季強化。評價已反映部分樂觀預期,策略上以逢回分批布局較佳,待高NA量產節奏與毛利率區間逐步驗證,有望帶動新一輪評價重估。
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