荷蘭ASML公司宣佈其下一代極紫外光(EUV)製造機已準備好進入高產量生產，這對全球半導體行業是一大突破。
在全球半導體需求持續增長的背景下，荷蘭ASML公司的一名高層主管向路透社透露，其最新型的極紫外光(EUV)晶片製造設備已經準備就緒，可以供應給各大廠商進行高產量生產。作為唯一一家提供商業化EUV工具的企業，ASML的技術對於提升晶片效能和效率至關重要。
根據ASML的資料，新工具能顯著簡化晶片製造過程，降低成本並提高效能，尤其是對臺灣積體電路製造公司(TSMC)及英特爾(INTC)等主要客戶而言。ASML計劃在週四於聖荷西舉辦的技術會議上公佈相關資料，標誌著該技術的重要里程碑。
開發這些新一代工具耗時多年，且每臺價格約4億美元，是原有EUV機器的兩倍。儘管如此，High-NA EUV工具目前執行穩定，已成功生產50萬片直徑如晚餐盤般大小的矽晶圓，並能夠精確繪製晶片上的電路圖案。未來隨著這項技術的推廣，預期將引領半導體市場的新一波創新與成長。
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