ASML突破光源技術助力晶片產量2030年前提高50%！

・ 2026 年 02 月 23 日

荷蘭ASML公司宣佈其新技術可將EUV光源功率提升至1000瓦，預計到2030年每小時可生產330片矽晶圓。

荷蘭半導體設備製造商ASML Holding在加州聖地牙哥宣佈，其研究人員成功提升關鍵晶片製造機器的光源功率，未來有望使晶片產量增加50%。這項技術創新不僅鞏固了ASML在全球市場的領先地位，也讓它能夠抵禦美國和中國競爭對手的挑戰。

ASML是目前唯一一家商業化極紫外線（EUV）光刻機的製造商，此類機器對於臺積電、英特爾等晶片製造商至關重要。該公司表示，新技術可以將EUV光源的功率從600瓦提升至1000瓦，進而降低每顆晶片的生產成本。根據公司的預測，到2030年，每臺機器每小時可處理約330片矽晶圓，相較於目前的220片大幅提升。

ASML的技術改進主要依賴於雙倍增加每秒噴射的錫滴數量，並利用兩束鐳射脈衝形成等離子體，使得所需的EUV光更加有效。專家指出，這一成就展現出ASML在複雜技術上的優勢，並且為未來更高功率的發展鋪平道路。

隨著美國政府及多家初創企業致力於開發本土替代品，ASML此番技術突破無疑會延續其市場主導地位。